Siebdruckverfahren
EP2216175
Art B1
14. November 2012
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2216175
- Aktenzeichen
- EP10250225
- Anmeldetag
- 10. Februar 2010
- Veröffentlichung
- 14. November 2012
- Erteilung
- 14. November 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B41F15/08B41F15/26B41F33/00B41M1/12H01L31/0224H01L31/18H05K3/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
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Fachgebiete
10
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Schwerpunkte