Verfahren zur Herstellung eines fotoresist Bild mit einer Unterschicht
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials LLC, International Business Machines Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2216684
- Aktenzeichen
- EP10152686
- Anmeldetag
- 4. Februar 2010
- Veröffentlichung
- 7. Oktober 2015
- Erteilung
- 7. Oktober 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09G03F7/20G03F7/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Rohm and Haas Electronic Materials LLC
International Business Machines Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
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US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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Fachgebiete
Sitz im englischen Bakewell in Derbyshire, Kanzlei aus UK Chartered und European Patent Attorneys mit eigener Industrieerfahrung. Spezialisiert auf europäische Patentanmeldung sowie Einspruchs- und Beschwerdeverfahren für US-amerikanische und europäische Firmenkunden.
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Buckley, Guy Julian
NoneBakewell