Verfahren zur Herstellung eines Beschichteten Substrats
EP2216803
Art B1
15. Januar 2014
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2216803
- Aktenzeichen
- EP08853796
- Anmeldetag
- 27. November 2008
- Veröffentlichung
- 15. Januar 2014
- Erteilung
- 15. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/20H01L21/02H01L27/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Holmes, Michael Anthony
Manchester, Großbritannien
50
Patente gesamt
15
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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Harrison Goddard Foote LLP
Harrison Goddard Foote LLP · York
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Harrison Goddard Foote
Harrison Goddard Foote · Leeds