Mit Refraktärem Metall Dotierte Sputtertargets
Anmelder: H. C. Starck, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2220264
- Aktenzeichen
- EP08841376
- Anmeldetag
- 24. Oktober 2008
- Veröffentlichung
- 25. August 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/00G11B5/127
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- H. C. Starck, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
H.C. Starck ist ein deutsches Unternehmen für Spezialmetalle und Werkstoffe wie Tantal und Wolfram mit Sitz in Goslar. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterwerkstoffe, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2019.
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Firmiert seit Oktober 2022 als Maiwald GmbH, mit Standorten in München und Düsseldorf eine der größten deutschen Kanzleien im gewerblichen Rechtsschutz. Deckt Anmeldestrategie bis Litigation vor dem Einheitlichen Patentgericht sowie Lizenz- und M&A-Beratung ab, mit starker Anbindung an ostasiatische Mandanten.