Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung von Verunreinigungen aus einem Substrat
EP2220670
Art A1
25. August 2010
Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2220670
- Aktenzeichen
- EP08862132
- Anmeldetag
- 14. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 25. August 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/302H01L21/304H01L21/02H01L21/67C11D11/00C11D3/37C11D7/26C11D7/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lam Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
Fachgebiete
3
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Derry, Paul Stefan
Venner Shipley LLP · London