Strahlungsquelle, Lithografische Vorrichtung und Strahlungserzeugungsverfahren
EP2220915
Art B1
27. Juni 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2220915
- Aktenzeichen
- EP08863152
- Anmeldetag
- 19. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 27. Juni 2012
- Erteilung
- 27. Juni 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven