Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehender Dünnfilm, Gesintertes Sputtertarget zur Herstellung eines Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehenden Dünnfilms und Verfahren zur Herstellung eines Hauptsächlich aus Titanoxid Bestehenden Dünnfilms
EP2221394
Art A1
25. August 2010
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2221394
- Aktenzeichen
- EP08863063
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 25. August 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/08C04B35/46C23C14/34G11B7/24G11B7/254G11B7/257G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
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