Auf Diffraktion basierendes Verfahren und System zur Bestimmung von einem Überlagerungsfehler, und entsprechender lithographischer Apparat
EP2223186
Art B1
30. Mai 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2223186
- Aktenzeichen
- EP08861584
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2018
- Erteilung
- 30. Mai 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
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