Indium-Target für Sputtereinrichtungen sowie Anordnung und Verfahren zur Herstellung solcher Indium-Targets

Details

Veröffentlichungs-Nr.

EP2228464

Aktenzeichen

EP10155360

Anmeldetag

3. März 2010

Veröffentlichung

26. Dezember 2012

Erteilung

26. Dezember 2012

Rechtsraum

EP

IPC

C23C14/34B23D23/00

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Indium-Target für Sputtereinrichtungen, enthaltend einen mit einem Kühlkreislauf verbindbaren Kühlkörper mit mindestens einer Vertiefung, die mit Indium verfüllt ist, wobei sich das Indium auf einer Seite des Kühlkörpers über dessen gesamte Breite und Länge erstreckt. Durch die Erfindung soll sowohl während des Gießvorganges, als auch beim Einsatz in Sputtereinrichtungen eine besonders gute Kühlleistung gewährleistet werden. Erreicht wird das dadurch, dass der Kühlkörper (2) flach ausgebildet ist und unterhalb der sich im Gebrauch der Indium-Targets (1) ausbildenden Sputtergräben (3, 4) unter jedem derselben mit einer zu diesem im wesentlichen formkongruenten in die Tiefe gehenden Aussparung (5, 6) versehen ist und wobei die Kühleinrichtung in Form von mit dem Kühlkörper (2) verbundenen Kühlkanälen (8) ausgebildet ist, wobei die Kühlkanäle (8) auf der Unterseite des Kühlkörpers (8) angeordnet sind.

Anmelder

Firma

FHR Anlagenbau GmbH

Land

🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete