Verfahren zur Herstellung von einer Schutzmembran für Fotomasken

EP2228683 Art A1 15. September 2010

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2228683
Aktenzeichen: EP10155572
Anmeldetag: 5. März 2010
Veröffentlichung: 15. September 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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