Beschichtungs- und Entwicklungsvorrichtung, Beschichtungs- und Entwicklungsverfahren und Aufzeichnungsmedium
EP2228684
Art A3
22. August 2012
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2228684
- Aktenzeichen
- EP10002420
- Anmeldetag
- 9. März 2010
- Veröffentlichung
- 22. August 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F7/00G03F7/16// H01L21/67H01L21/677
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München