Hartmaskenzusammensetzung auf Siliciumbasis (spin-On-Hartmaske auf Si-Soh- und Si-Basis) sowie Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit einer Integrierten Halbleiterschaltung daraus
EP2229607
Art A2
22. September 2010
Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2229607
- Aktenzeichen
- EP08869469
- Anmeldetag
- 31. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 22. September 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cheil Industries Inc.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Cheil Industries Inc.
Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.
596 Patente in unserer Datenbank