Mehrschichtiges Substrat mit Gan-Schicht, Verfahren zur Hestellung des Mehrschichtigen Substrats mit Gan-Schicht und Vorrichtung

EP2230334 Art A1 22. September 2010

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2230334
Aktenzeichen: EP08859773
Anmeldetag: 11. Dezember 2008
Veröffentlichung: 22. September 2010
Rechtsraum: EP
IPC: C30B29/08H01L21/203H01L21/205H01L33/00C30B25/18C30B23/02C30B33/02C30B29/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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