Verfahren für In-Situ-Kammerreinigungsverfahren für die Massenherstellung von Halbleitermaterialien
EP2231898
Art A2
29. September 2010
Anmelder: Soitec, S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2231898
- Aktenzeichen
- EP08868108
- Anmeldetag
- 5. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 29. September 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/52C23C16/54H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Soitec
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
529 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Collin, Jérôme
Paris, Frankreich
478
Patente gesamt
32
Fachgebiete
21
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Schwerpunkte
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Regimbeau
Regimbeau · Rennes