Euv-Lichtquellenkomponenten und Verfahren zu Ihrer Herstellung, Verwendung und Überholung
EP2232210
Art A2
29. September 2010
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC, Cymer, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2232210
- Aktenzeichen
- EP08866001
- Anmeldetag
- 5. Dezember 2008
- Veröffentlichung
- 29. September 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01J1/42C23C16/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC
Cymer, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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