Verfahren zum Isolieren von Teilen einer Schleife aus Rasterabstandvervielfachtem Material und Diesbezügliche Strukturen

EP2232539 Art B1 17. Februar 2016

Anmelder: Micron Technology, Inc., Micron Technology, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2232539
Aktenzeichen
EP08861157
Anmeldetag
16. Dezember 2008
Veröffentlichung
17. Februar 2016
Erteilung
17. Februar 2016
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/8247H01L27/115H01L21/033// H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Micron Technology, Inc.
Micron Technology, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Kanzlei
Carpmaels & Ransford LLP

Carpmaels & Ransford gehört zu den ältesten IP-Kanzleien überhaupt und geht auf eine 1776 gegründete Patentagentur zurück. Von London, München und Dublin aus führt sie als eine der wenigen Häuser Parallelverfahren vor EPA, UPC und britischen Gerichten aus einem Team.

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