Herstellungsverfahren für einen Dünnfilmtransistor und Herstellungsverfahren für eine Display-Anordnung
EP2232561
Art A1
29. September 2010
Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2232561
- Aktenzeichen
- EP08857769
- Anmeldetag
- 21. November 2008
- Veröffentlichung
- 29. September 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/786G09F9/30H01L21/336H01L29/417H01L29/423H01L29/49H01L27/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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