Dünnfilmtransistoren mit Langem Schwachdotiertem Drain auf einem Soi-Substrat und Herstellungsprozess dafür

EP2235754 Art A2 6. Oktober 2010

Anmelder: Corning Incorporated, Kyung Hee University 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2235754
Aktenzeichen
EP09707745
Anmeldetag
27. Januar 2009
Veröffentlichung
6. Oktober 2010
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/861
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Corning Incorporated
Kyung Hee University
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Corning

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Corning, New York. Corning ist spezialisiert auf Spezialglas, Keramik und optische Fasern für Displays, Telekommunikation, Automobiltechnik, Life Sciences und Umwelttechnik.

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