Fotolithografieverfahren

EP2239629 Art B1 30. März 2016

Anmelder: Osaka University, Nanophoton Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2239629
Aktenzeichen: EP09706190
Anmeldetag: 28. Januar 2009
Veröffentlichung: 30. März 2016
Erteilung: 30. März 2016
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G02F1/355G03C1/73G11B7/24G11B7/244

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Osaka University
Nanophoton Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Optik & Fototechnik

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