Herstellungsverfahren für ein Widerstandsschaltelement mit Nanolücken-Metallelektroden
EP2239796
Art B1
17. Februar 2016
Anmelder: Funai Electric Co., Ltd., Funai Electric Advanced Applied Technology Research Institute Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2239796
- Aktenzeichen
- EP10159482
- Anmeldetag
- 9. April 2010
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2016
- Erteilung
- 17. Februar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L45/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Funai Electric Co., Ltd.
Funai Electric Advanced Applied Technology Research Institute Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Funai Electric
Japanischer Elektronikhersteller mit Produkten wie Fernsehgeräten, Druckern und weiterer Unterhaltungselektronik.
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