Gasmodulation zur Steuerung der Randexklusion in einer Bevel-Edge-Ätzplasmakammer
EP2240957
Art A2
20. Oktober 2010
Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2240957
- Aktenzeichen
- EP09705169
- Anmeldetag
- 16. Januar 2009
- Veröffentlichung
- 20. Oktober 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lam Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
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3
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Weitere Vertreter
-
Derry, Paul Stefan
Venner Shipley LLP · London