Doppelt Behandeltes Siliciumdioxid, Verfahren zur Herstellung von Doppelt Behandeltem Siliciumdioxid und Tintenstrahlaufzeichnungsmaterialien
EP2242720
Art B1
28. Dezember 2016
Anmelder: Hewlett-Packard Development Company, L.P. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2242720
- Aktenzeichen
- EP08728111
- Anmeldetag
- 23. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 28. Dezember 2016
- Erteilung
- 28. Dezember 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/12C09C1/30B41M5/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hewlett-Packard Development Company, L.P.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Hewlett-Packard
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Palo Alto, Kalifornien. Aktiv in Computerhardware, Druckern, Speicherlösungen sowie Unternehmens-IT und Cloud-Infrastruktur.
20.228 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Rees, Simon John Lewis
Bristol, Großbritannien
1.387
Patente gesamt
31
Fachgebiete
22
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Schwerpunkte