Feinstrukturmaske, Verfahren zu Ihrer Herstellung und Verfahren zur Bildung einer Feinstruktur unter Verwendung der Maske
EP2244127
Art A1
27. Oktober 2010
Anmelder: Merck Patent GmbH, AZ Electronic Materials USA Corp., AZ Electronic Materials (Japan) K.K. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2244127
- Aktenzeichen
- EP09706606
- Anmeldetag
- 27. Januar 2009
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Merck Patent GmbH
AZ Electronic Materials USA Corp.
AZ Electronic Materials (Japan) K.K. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Merck KGaA
Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.
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