Verfahren zur Behandlung einer Oberfläche eines Soi-Substrats
EP2244280
Art A1
27. Oktober 2010
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2244280
- Aktenzeichen
- EP09711063
- Anmeldetag
- 12. Februar 2009
- Veröffentlichung
- 27. Oktober 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/3065H01L21/324H01L27/12H01L21/762H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
Marollé, Patrick Pierre Pascal
Darmstadt, Deutschland
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