Vorbehandlungsverfahren zur Steigerung der Kupferinsel-Dichte und zur Verbesserung der Haftung von Cu auf Grenzschichten
EP2244287
Art B1
19. Dezember 2018
Anmelder: IMEC VZW, IMEC 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2244287
- Aktenzeichen
- EP10160886
- Anmeldetag
- 23. April 2010
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2018
- Erteilung
- 19. Dezember 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L21/288H01L23/532C25D5/34C25D7/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC VZW
IMEC - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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