Fotomaske und Anordnung von Fotomaske mit Schutzmembran

EP2246738 Art A1 3. November 2010

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2246738
Aktenzeichen: EP10161473
Anmeldetag: 29. April 2010
Veröffentlichung: 3. November 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/14G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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