Verfahren zur Übertragung einer Schicht von einem Donatorsubstrat auf ein Handhabungssubstrat
EP2246882
Art B1
4. März 2015
Anmelder: Soitec, S.O.I. TEC Silicon 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2246882
- Aktenzeichen
- EP09290314
- Anmeldetag
- 29. April 2009
- Veröffentlichung
- 4. März 2015
- Erteilung
- 4. März 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/306
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Soitec
S.O.I. TEC Silicon - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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