Optisches Element, Lithografievorrichtung mit Derartigem Optischen Element und Verfahren zur Herstellung eines Bauelements

EP2247968 Art B1 4. April 2012

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2247968
Aktenzeichen
EP09715126
Anmeldetag
24. Februar 2009
Veröffentlichung
4. April 2012
Erteilung
4. April 2012
Rechtsraum
EP
IPC
G02B5/20G02B5/22G02B5/26G03F7/20G21K1/06G02B5/08
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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