Zusammensetzung zur Bildung eines Resistunterschichtfilms und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur damit

EP2251742 Art B1 16. Mai 2012

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2251742
Aktenzeichen: EP09712004
Anmeldetag: 19. Februar 2009
Veröffentlichung: 16. Mai 2012
Erteilung: 16. Mai 2012
Rechtsraum: EP
IPC: C08G59/42G03F7/09G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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