Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit

EP2252915 Art A1 24. November 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2252915
Aktenzeichen: EP09720706
Anmeldetag: 13. März 2009
Veröffentlichung: 24. November 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004C08F12/04C08F20/10G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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