Dünner Film aus Metall-Silicium-Verbindung und Verfahren zur Herstellung des Dünnen Films aus Metall-Silicium-Verbindung

EP2253589 Art A1 24. November 2010

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2253589
Aktenzeichen: EP09714676
Anmeldetag: 25. Februar 2009
Veröffentlichung: 24. November 2010
Rechtsraum: EP
IPC: C01B33/06C23C14/28C23C16/42H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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