Zielmaterial, Quelle, Euv-Lithographievorrichtung und Geräteherstellungsverfahren unter deren Verwendung

EP2255600 Art B1 13. Februar 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2255600
Aktenzeichen: EP09721483
Anmeldetag: 20. März 2009
Veröffentlichung: 13. Februar 2013
Erteilung: 13. Februar 2013
Rechtsraum: EP
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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