Herstellungsverfahren für einen Soi-Wafer
EP2256787
Art B1
7. August 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2256787
- Aktenzeichen
- EP09722529
- Anmeldetag
- 23. März 2009
- Veröffentlichung
- 7. August 2019
- Erteilung
- 7. August 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L21/306H01L27/12H01L21/02H01L21/265
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Larcher, Dominique
Rennes, Frankreich
564
Patente gesamt
32
Fachgebiete
18
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Vidon Brevets & Stratégie
Vidon Brevets & Stratégie · Rennes