Oxid-Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung

EP2256814 Art B1 16. Januar 2019

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2256814
Aktenzeichen
EP10161738
Anmeldetag
3. Mai 2010
Veröffentlichung
16. Januar 2019
Erteilung
16. Januar 2019
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/786H01L29/49H01L27/12
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

4.187 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen