Spektraler Reinigungsfilter für einen mehrschichtigen Spiegel, lithografische Vorrichtung mit einem derartigen mehrschichtigen Spiegel, Verfahren zur Vergrößerung des Verhältnisses von erwünschter und unerwünschter Strahlung sowie Geräteherstellungsverfahren

EP2261698 Art B1 20. März 2013

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2261698
Aktenzeichen
EP10181596
Anmeldetag
26. April 2006
Veröffentlichung
20. März 2013
Erteilung
20. März 2013
Rechtsraum
EP
IPC
G02B5/08G02B1/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands BV
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

390 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen