Verfahren zur Herstellung einer Photomaske
EP2261736
Art B1
31. Juli 2013
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2261736
- Aktenzeichen
- EP10251082
- Anmeldetag
- 11. Juni 2010
- Veröffentlichung
- 31. Juli 2013
- Erteilung
- 31. Juli 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00G03F1/80G03F1/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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