Plasmaentladungsanlage zur Schichterzeugung und entsprechendes Schichterzeugungsverfahren
EP2261948
Art B1
5. März 2014
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2261948
- Aktenzeichen
- EP10183025
- Anmeldetag
- 27. September 2007
- Veröffentlichung
- 5. März 2014
- Erteilung
- 5. März 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C14/00C23C14/08C23C14/34H01J37/34H01L41/316
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
21.764 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Vierheilig, Achim
München, Deutschland
44
Patente gesamt
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Fachgebiete
4
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Schwerpunkte