Vorrichtung zur Bearbeitung von Substraten
EP2261952
Art B1
20. März 2013
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2261952
- Aktenzeichen
- EP10010838
- Anmeldetag
- 6. Oktober 2000
- Veröffentlichung
- 20. März 2013
- Erteilung
- 20. März 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.253 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Waldren, Robin Michael
London, Großbritannien
1.488
Patente gesamt
33
Fachgebiete
19
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Schwerpunkte