Verfahren zur Herstellung eines Soi-Substrats
EP2261954
Art B1
22. Januar 2020
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2261954
- Aktenzeichen
- EP09729038
- Anmeldetag
- 1. April 2009
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2020
- Erteilung
- 22. Januar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762// H01L27/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Kanzlei
Cabinet Didier Martin
Limonest, Frankreich
Sitz in Limonest bei Lyon, bewusst an das industrielle Erbe der Region angelehnt. Das mehrsprachige Team aus Ingenieuren und einer Anwältin wurde von Leaders League wiederholt als „highly recommended“ für die französische Patentpraxis ausgezeichnet.
459
Patente gesamt
1
Patentanwälte
1
Standorte
Weitere Vertreter
-
Martin, Didier Roland Valéry
NoneCharbonnières-les-Bains