Material für Gasphasenabscheidung, Siliciumhaltiger Isolierfilm und Herstellungsverfahren dafür

EP2264219 Art A1 22. Dezember 2010

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2264219
Aktenzeichen: EP09725410
Anmeldetag: 24. März 2009
Veröffentlichung: 22. Dezember 2010
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/42C08G77/50H01L21/312H01L21/316H01L21/768H01L23/522

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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