Verfahren zum Bearbeiten von Arbeitsstücken mit einer Fotoresistschicht

EP2264527 Art A1 22. Dezember 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2264527
Aktenzeichen: EP08873154
Anmeldetag: 15. Dezember 2008
Veröffentlichung: 22. Dezember 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F7/00G11B7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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