System und Verfahren zur Zielmaterialabgabe in einer Laserproduzierten Plasma-Euv-Lichtquelle

EP2266375 Art B1 14. Mai 2014

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2266375
Aktenzeichen: EP09722017
Anmeldetag: 17. Februar 2009
Veröffentlichung: 14. Mai 2014
Erteilung: 14. Mai 2014
Rechtsraum: EP
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

Vertreten von