Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung von Dunkelfeld-Doppeldipollithografie
EP2267530
Art A1
29. Dezember 2010
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML MaskTools B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2267530
- Aktenzeichen
- EP10181581
- Anmeldetag
- 5. April 2007
- Veröffentlichung
- 29. Dezember 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML MaskTools B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte