Verfahren zur Herstellung eines Ito-Sputtertargets mit Hoher Dichte
EP2276712
Art A1
26. Januar 2011
Anmelder: Sinito (Shenzhen) Optoelectrical Advanced Materials Company Limited, Advanced Technology Materials Limited, Bizesp Limited 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2276712
- Aktenzeichen
- EP09746091
- Anmeldetag
- 7. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C04B35/457C04B35/64B28B1/26B28B7/38C01G19/00C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Sinito (Shenzhen) Optoelectrical Advanced Materials Company Limited
Advanced Technology Materials Limited
Bizesp Limited - Land
- 🇨🇳 China
🇺🇸
Advanced Technology Materials
Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.
458 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Talbot-Ponsonby, Daniel Frederick
Oxford, Großbritannien
1.039
Patente gesamt
32
Fachgebiete
24
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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Schiweck Weinzierl Koch Patentanwälte Partnerschaft mbB
Schiweck Weinzierl Koch Patentanwälte Partnerschaft mbB · München
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Schiweck, Weinzierl & Koch
Schiweck, Weinzierl & Koch · München