Die Photolithographie-Verfahrens

EP2280308 Art A1 2. Februar 2011

Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2280308
Aktenzeichen
EP10165194
Anmeldetag
8. Juni 2010
Veröffentlichung
2. Februar 2011
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/039G03F7/11G03F7/20G03F7/32G03F7/38
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Rohm and Haas Electronic Materials, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Rohm and Haas

Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.

2.601 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen