Thermisches Ausheilen von Blockcopolymerfilmen mit Eingeschränkter Oberer Grenzfläche zum Benetzen Beider Blöcke mit Gleicher Präferenz

EP2281299 Art B1 10. Dezember 2014

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2281299
Aktenzeichen
EP09721942
Anmeldetag
3. März 2009
Veröffentlichung
10. Dezember 2014
Erteilung
10. Dezember 2014
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/033B81C1/00B82Y30/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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