Sputtering-Target und nicht Kristalliner Optischer Dünnfilm
EP2281919
Art A1
9. Februar 2011
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2281919
- Aktenzeichen
- EP09758236
- Anmeldetag
- 26. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 9. Februar 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C04B35/453C23C14/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte