Verfahren zur Übertragung einer Dünnschicht mittels Protonenaustausch

EP2283172 Art A1 16. Februar 2011

Anmelder: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives, Soitec, S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies S.A., COMMISARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2283172
Aktenzeichen
EP09742298
Anmeldetag
10. April 2009
Veröffentlichung
16. Februar 2011
Rechtsraum
EP
IPC
C30B31/04C30B33/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
Soitec
S.O.I.TEC Silicon on Insulator Technologies S.A.
COMMISARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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