Sputtering-Target aus Tungstengesintertem Material
EP2284289
Art B1
22. Januar 2014
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2284289
- Aktenzeichen
- EP09758167
- Anmeldetag
- 16. April 2009
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2014
- Erteilung
- 22. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C22C27/04B22F3/105C23C14/16C23C14/34C22C1/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
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Schwerpunkte