Halbleiterbauelement und dessen Herstellungsverfahren

EP2284891 Art B1 24. Juli 2019

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2284891
Aktenzeichen
EP10171256
Anmeldetag
29. Juli 2010
Veröffentlichung
24. Juli 2019
Erteilung
24. Juli 2019
Rechtsraum
EP
IPC
H01L27/12H01L29/786G02F1/1333G02F1/1335G02F1/1337G02F1/1339G02F1/1343G02F1/1345G02F1/1362G02F1/1368H01L29/24G11C19/28G02F1/133
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

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